د TaC لیپت شوي ګرافیت لارښود حلقېد پتلی پرت جمع کولو ته مراجعه وکړئtantalum کاربایډد ګرافیت لارښود حلقه په سطحه د دې د اغوستو مقاومت ، د تودوخې لوړ مقاومت او کیمیاوي ثبات ښه کولو لپاره. دا کوټ معمولا د ګرافیت لارښود حلقې په سطحه د تخنیکونو لکه د فزیکي بخار ډیپوزیشن (PVD) یا کیمیاوي بخار ذخیره (CVD) په واسطه رامینځته کیږي.
سیمیسیرا د مختلف اجزاو او کیریرونو لپاره ځانګړي ټنټلم کاربایډ (TaC) کوټینګونه چمتو کوي.د سیمیسیرا مخکښ کوټینګ پروسه د ټنټلم کاربایډ (TaC) کوټینګونو ته وړتیا ورکوي ترڅو لوړ پاکوالي ، د تودوخې لوړ ثبات او لوړ کیمیاوي زغم ترلاسه کړي ، د SIC/GAN کرسټالونو او EPI پرتونو د محصول کیفیت ښه کوي (د ګرافیت لیپت شوي TaC سوسیپټر)، او د کلیدي ریکټور اجزاو ژوند اوږدول. د ټینټالم کاربایډ ټیک کوټینګ کارول د څنډې ستونزې حل کول او د کرسټال ودې کیفیت ښه کول دي ، او سیمیسرا د ټینټالم کاربایډ کوټینګ ټیکنالوژۍ (CVD) په بریالیتوب سره حل کړې ، نړیوالې پرمختللي کچې ته رسیدلي.
د TaC لیپت شوي ګرافیت لارښود حلقې اصلي ځانګړتیاوې عبارت دي له:
1. د تودوخې لوړ مقاومت: د TaC کوټینګ د تودوخې لوړ ثبات لري او کولی شي د تودوخې لوړ چاپیریال کې ثبات وساتي.
2. د اغوستلو مقاومت: د ټنټلم کاربایډ پتلی پرت لوړه سختۍ لارښود حلقه د ښه پوښ مقاومت ورکوي او د دې خدمت ژوند اوږدوي.
3. کیمیاوي ثبات: د TaC کوټینګ د کیمیاوي ککړتیا په وړاندې لوړ ثبات لري، چې دا په ځینو ککړو رسنیو کې د غوښتنلیک لپاره مناسب کوي.
4. رګ کم کړئ: د TaC کوټینګ کولی شي په مؤثره توګه د ګرافیت لارښود حلقې او نورو اجزاوو تر مینځ رګ کم کړي او د میخانیکي سیلونو موثریت ته وده ورکړي.
د TaC سره او پرته
د TaC کارولو وروسته (ښي)
برسېره پر دې، د Semicera'sد TaC پوښ شوي محصولاتپه پرتله د اوږد خدمت ژوند او د لوړې تودوخې مقاومت څرګندويد SiC پوښاک.د لابراتوار اندازه کولو ښودلې چې زموږد TaC پوښونهکولی شي په دوامداره توګه د اوږدې مودې لپاره تر 2300 درجو پورې د تودوخې درجه ترسره کړي. لاندې زموږ د نمونو ځینې مثالونه دي:
