د سیلیکون ویفر حرارتي آکسایډ پرت د اکسایډ پرت یا سیلیکا طبقه ده چې د سیلیکون ویفر په روښانه سطح کې د اکسیډیز کولو اجنټ سره د لوړې تودوخې شرایطو لاندې رامینځته کیږي.د سیلیکون ویفر حرارتي آکسایډ طبقه معمولا په افقی ټیوب فرنس کې کرل کیږي ، او د ودې تودوخې حد عموما 900 ° C ~ 1200 ° C دی ، او د "لوند اکسیډریشن" او "وچ اکسیډریشن" دوه ودې حالتونه شتون لري.د تودوخې اکسایډ طبقه د "کرد شوي" اکسایډ طبقه ده چې د CVD زیرمه شوي آکسایډ پرت په پرتله لوړ یوازیتوب او لوړ ډیالیټرک ځواک لري.د حرارتي اکسایډ طبقه د انسولیټر په توګه یو غوره ډایالټریک پرت دی.په ډیری سیلیکون میشته وسیلو کې ، د تودوخې آکسایډ پرت د ډوپینګ بلاک کولو پرت او د سطحې ډایالټریک په توګه مهم رول لوبوي.
لارښوونې: د اکسیډیشن ډول
1. وچ اکسیډیشن
سیلیکون د اکسیجن سره تعامل کوي، او د اکسایډ پرت د بیسال پرت ته حرکت کوي.وچ اکسیډریشن باید د 850 څخه تر 1200 ° C په تودوخې کې ترسره شي، او د ودې کچه ټیټه ده، کوم چې د MOS موصلیت دروازې ودې لپاره کارول کیدی شي.کله چې د لوړ کیفیت، الټرا پتلي سیلیکون اکسایډ پرت ته اړتیا وي، وچ اکسیډریشن د لوند اکسیډریشن په پرتله غوره کیږي.
د وچ اکسیډیشن ظرفیت: 15nm ~ 300nm (150A ~ 3000A)
2. لوند اکسیډریشن
دا طریقه د هایدروجن او لوړ پاک اکسیجن مخلوط کاروي تر څو په 1000 ° C تودوخه کې وسوځول شي، په دې توګه د اوبو بخار تولیدوي ترڅو د اکساید طبقه جوړه کړي.که څه هم لوند اکسیډریشن نشي کولی د وچ اکسیډریشن په څیر د لوړ کیفیت اکسیډیشن پرت تولید کړي ، مګر د انزوا زون په توګه د کارولو لپاره کافي کافي ، د وچ اکسیډریشن په پرتله روښانه ګټه دا ده چې دا د ودې لوړه کچه لري.
د لوند اکسیډیشن ظرفیت: 50nm ~ 15µm (500A ~ 15µm)
3. وچه طریقه - لوند طریقه - وچه طریقه
په دې طریقه کې، خالص وچ اکسیجن په لومړي پړاو کې د اکسیډریشن فرنس ته خوشې کیږي، هایدروجن د اکسیډریشن په مینځ کې اضافه کیږي، او هایدروجن په پای کې ذخیره کیږي ترڅو د خالص وچ اکسیجن سره اکسیډریشن ته دوام ورکړي ترڅو د اکسیډریشن جوړښت په پرتله ډیر کثافت جوړ کړي. د اوبو بخار په شکل کې د لوند اکسیډریشن پروسه.
4. د TEOS اکسیډیشن
| د اکسیډریشن تخنیک | لوند اکسیډریشن یا وچ اکسیډریشن |
| قطر | 2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
| د اکسایډ ضخامت | 100 Å ~ 15µm |
| زغم | +/- 5% |
| سطحه | د واحد اړخ اکسیډریشن (SSO) / دوه اړخیز اکسیډریشن (DSO) |
| کوره | افقی ټیوب فرنس |
| ګاز | هایډروجن او اکسیجن ګاز |
| د حرارت درجه | 900℃ ~ 1200℃ |
| انعکاس شاخص | 1.456 |
