د CVD TaC کوټینګ

 

د CVD TaC کوټینګ پیژندنه:

 

د CVD TaC کوټینګ یوه ټیکنالوژي ده چې د سبسټریټ په سطحه د ټینټالم کاربایډ (TaC) کوټینګ زیرمه کولو لپاره کیمیاوي بخار جمع کوي. تانتالم کاربایډ د لوړ فعالیت سیرامیک مواد دی چې د غوره میخانیکي او کیمیاوي ملکیتونو سره. د CVD پروسه د ګاز عکس العمل له لارې د سبسټریټ په سطح کې یونیفورم TaC فلم رامینځته کوي.

 

اصلي ځانګړتیاوې:

 

عالي سختۍ او د پوښ مقاومت: تانتالم کاربایډ خورا لوړ سختی لري، او د CVD TaC کوټینګ کولی شي د پام وړ د سبسټریټ د پوښ مقاومت ته وده ورکړي. دا کوټینګ د لوړ پوښاک چاپیریال کې غوښتنلیکونو لپاره مثالی کوي ، لکه د پرې کولو اوزار او مولډ.

د لوړ حرارت ثبات: د TAC کوټینګونه تر 2200 درجو پورې د تودوخې په وخت کې د فرنس او ​​ریکټور اجزا ساتي، ښه ثبات څرګندوي. دا د تودوخې د سختو شرایطو لاندې کیمیاوي او میخانیکي ثبات ساتي، دا د لوړ تودوخې پروسس کولو او د لوړې تودوخې چاپیریال کې غوښتنلیکونو لپاره مناسب کوي.

عالي کیمیاوي ثبات: تانتالم کاربایډ د ډیری اسیدونو او الکالیزونو په وړاندې قوي مقاومت لري، او د CVD TaC کوټینګ کولی شي په مؤثره توګه په ککړ چاپیریال کې سبسټریټ ته د زیان مخه ونیسي.

د لوړ خټکي نقطه: Tantalum کاربایډ د خټکي لوړه نقطه لري (نږدې 3880 ° C)، د CVD TaC کوټینګ ته اجازه ورکوي چې د تودوخې په خورا لوړه شرایطو کې پرته له خټکي یا تخریب څخه کار واخلي.

عالي حرارتي چالکتیا: د TaC کوټینګ لوړ حرارتي چالکتیا لري، کوم چې د لوړ تودوخې پروسو کې د تودوخې په اغیزمنه توګه له مینځه وړلو کې مرسته کوي او د ځایی ډیر تودوخې مخه نیسي.

 

احتمالي غوښتنلیکونه:

 

• Gallium Nitride (GaN) او د سیلیکون کاربایډ اپیټیکسیل CVD ریکټر اجزا په شمول د ویفر کیریر، سپوږمکۍ لوښي، شاور سرونه، چتونه، او سوسیپټرونه

• سیلیکون کاربایډ، ګیلیم نایټرایډ او المونیم نایټرایډ (AlN) کرسټال د ودې اجزا په شمول د کروسیبلونو، د تخمونو لرونکی، لارښود حلقې او فلټرونه

• صنعتي برخې پشمول د مقاومت تودوخې عناصر، د انجیکشن نوزلونه، د ماسک کولو حلقې او د بریزینګ جیګونه

 

د غوښتنلیک ځانګړتیاوې:

 

• د تودوخې درجه د 2000 درجو څخه پورته ثابته ده، په سخته تودوخه کې د فعالیت اجازه ورکوي
• د هایدروجن (Hz)، امونیا (NH3)، مونوسیلین (SiH4) او سیلیکون (Si) په وړاندې مقاومت لري، په سخت کیمیاوي چاپیریال کې محافظت چمتو کوي
• د حرارتي شاک مقاومت ګړندی عملیاتي دورې وړوي
• ګرافایټ قوي چپکونکی لري، د اوږد خدمت ژوند تضمین کوي ​​​​او د پوښ کولو مخنیوی نه کوي.
• د غیر ضروري ناپاکۍ یا ککړتیاو له مینځه وړلو لپاره خورا لوړ پاکوالی
• د سخت ابعادي زغم لپاره د کوټینګ پوښښ

 

تخنیکي مشخصات:

 

د CVD پواسطه د کثافاتو ټینټالم کاربایډ کوټینګ چمتو کول:

 د CVD میتود په واسطه د ټانتلوم کاربایډ کوټینګ

د لوړ کریسټالینیت او غوره یونیفورم سره د TAC کوټ کول:

 د لوړ کریسټالینیت او عالي یووالي سره د TAC کوټینګ

 

 

د CVD TAC کوټینګ تخنیکي پیرامیټونه_سیمیرا:

 

 د CVD TAC کوټینګ تخنیکي پیرامیټونه_سیمیسیرا

پورتني ارزښتونه عادي دي.